光刻胶按照形成的图像分类，有正性光刻胶和负性光刻胶两大类。正性光刻胶在曝光后，曝光部分会溶解于显影液，留下未曝光的部分形成图形；而负性光刻胶则相反，未曝光部分会溶解，留下曝光部分形成图形。此外，根据曝光光源和辐射源的不同，光刻胶还可分为紫外光刻胶、深紫外光刻胶、X射线胶、电子束胶和离子束胶等。在集成电路制造过程中，光刻胶的作用至关重要。它被广泛应用于硅片制造、显示面板生产以及半导体分立器件的加工等领域。光刻胶的质量直接影响集成电路的制造成本、良率及性能。随着半导体技术的不断发展，对光刻胶的需求也在稳步增加。