在满足半导体工艺兼容的条件下，折射率高达2.0左右的氮化硅透明薄膜是一种制备谐振微腔的理想材料。氮化硅膜(Silicon nitridc film)是指硅氮化合物的薄膜，常用作微电子技术电绝缘层。化学计量比的氮化硅由正方氮化硅晶胞组成，多余的硅原子在其中排列成六方结构。